質問：
MOS FETリレーを半導体と一緒にプリント基板にはんだ実装しています。洗浄は半導体と同様の条件で可能でしょうか？
洗浄条件を教えてください。また、超音波洗浄は可能でしょうか？
回答：
半導体の洗浄がどのような条件なのか不明なため、【解説】の「フラックス洗浄」の注意事項を参照の上、実施ください。
超音波洗浄は可能です。【解説】の超音波洗浄の推奨条件をご確認の上、実施ください。
解説：
MOS FETリレーの洗浄について
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フラックス洗浄における注意事項
- フラックス洗浄は、ナトリウム、塩素などの反応性イオンの残留がないように洗浄してください。
有機溶剤によっては、水と反応し塩化水素などの腐食性ガスを発生させ、MOS FETリレーの劣化を生じさせる恐れがあります。 - 水洗浄に際しては、特にナトリウム、塩素などの反応性イオンの残留がないようにしてください。
- 洗浄中または、洗浄液がMOS FETリレーに付着した状態で、ブラシや手で表示マーク面をこすらないでください。
表示マークが消える恐れがあります。 - 浸漬洗浄、シャワー洗浄、およびスチーム洗浄は溶剤の化学的作用により洗浄を行います。溶剤中やスチーム中の浸漬時間は、MOS FETリレーへの影響を考慮して、液温50℃以下で1分以内に処理してください。
- フラックス洗浄は、ナトリウム、塩素などの反応性イオンの残留がないように洗浄してください。
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超音波洗浄における注意事項
超音波による洗浄を行う場合は短時間で行ってください。長時間の洗浄はモールド樹脂とフレーム材との密着性を低下させる恐れがあります。尚、推奨する基本的な条件は下記の通りです。
・【超音波洗浄の推奨条件】
周波数：27～29kHz
超音波出力：300W以下（0.25W/cm2以下）
洗浄時間：30秒以下
また、超音波振動子とプリント基板やMOS FETリレーが、直接接触しないように溶剤中に
浮遊した状態で行ってください。
MOS FETリレー共通の注意事項：●フラックス洗浄をご参照ください。
ワンポイントアドバイス
洗浄残渣は、絶縁性低下や端子腐食の原因になりますので、洗浄状態を確認して行ってください。
超音波洗浄は、できるだけ短時間で行ってください。
| 商品カテゴリー | リレー MOS FETリレー |
|---|---|
| 分類 | 実装・保管 |
| 関連キーワード | MOS FETリレー フラックス洗浄 超音波洗浄 |
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リレー | DigiKey Electronics
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